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分子束外延系統(tǒng)的組成說明
日期：2025-05-01 09:30
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摘要：
分子束外延（MBE）是一種靈活的外延薄膜技術，可以表述為在超高真空環(huán)境中通過把熱蒸發(fā)產(chǎn)生的原子或分子束投射到具有一定取向、一定溫度的清潔襯底上而生成高質量的薄膜材料或各種所需結構。晶體生長受分子束相互作用的動力學過程支配，而異于常規(guī)的化學氣相淀積(VPE)和液相外延(LPE)中的準熱力學平衡。隨著MBE技術的發(fā)展，出現(xiàn)了遷移增強外延技術（MEE）和氣源分子束外延（GS-MEE）技術，近年來又出現(xiàn)了激光分子束外延技術。
分子束外延系統(tǒng)主要由一個預處理室、一個過渡室和一個生長室組成。預處理室用于完成襯底的進樣，以Si襯底為例，在進樣室裝樣，等待約1.5小時后進樣室真空小于10-8Torr，再傳入過渡室內，在400℃下進行1小時預除氣，然后傳送入生長室；在生長室中主要完成樣品的高溫脫氧和緩沖層的外延過程。進樣室和過渡室的真空維持靠濺射離子泵，極限真空度可以達到10-10Torr，而生長室的真空維持靠低溫吸附泵、濺射離子泵和液氮冷阱，極限真空能到10-11 Torr。
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